產品中心
Product Center
熱門搜索：
美國EDAX能譜儀
EP6美國 Cascade Microtech EP6探針臺
TEM氮化硅薄膜窗口
NTEGRAPrima俄羅斯產全功能掃描探針原子力顯微鏡
Zeta-20三維光學輪廓儀
主動隔振臺ARISTT
石英/硅/聚合物模板高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）
iNano高精度臺式納米壓痕儀
P170全自動晶圓探針式輪廓儀/臺階儀
PLD/Laser-MBE脈沖激光沉積/分子束外延聯(lián)用系統(tǒng)
納米團簇束流沉積系統(tǒng)
P7晶圓探針式輪廓儀/臺階儀
Lumina光學表面缺陷分析儀
Profilm 3D經濟三維光學輪廓儀 可測樣
Solver P47俄羅斯產高性價比掃描探針顯微鏡原子力
納米壓印膠
全自動步進重復式激光干涉光刻機 VIL 1000納米光刻系統(tǒng)具有全自動光路重構、動態(tài)鎖相、高精度步進重復曝光等強大功 能。在放置旋涂好光刻膠的 晶圓后，無需任何手動設置或調整，我們的自動化系統(tǒng)可以在2 cm×2 cm的曝光區(qū)域內 （曝光區(qū)域還可定制其他尺寸及形狀）實現(xiàn)納米尺度的一維光柵或二維陣列的加工。所制 備納米結構的周期涵蓋240 nm到1500 nm的區(qū)間范圍，
更新時間：2024-06-17
產品型號：
瀏覽量：2402
VIL1000激光干涉光刻機 VIL系列納米圖形系統(tǒng)（激光干涉光刻機）具有快速可重構光束傳輸、主動圖形穩(wěn)定和精確樣品定位等強大功能。該系統(tǒng)可以通過使用標準2cm×2cm正方形或用戶定義形狀的圖案場進行重復曝光，在8英寸大面積上產生各種納米結構，例如1D光柵線和2D柱/孔圖案，周期從240 nm到1500 nm。
更新時間：2024-06-17產品型號：瀏覽量：2117
當前位置：
